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摘要:
分析了不同预处理方式下缺陷上的激光能量的覆盖特点.理论分析表明,相同预处理效率下,单步预处理缺陷上激光能量覆盖率优于多步预处理.实验研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜的激光预处理,结果发现单步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值比相同效率的4步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值要好.采用最高能量密度为112%激光损伤阈值的5步预处理后,光学薄膜的激光损伤阈值提高了83.5%.
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文献信息
篇名 激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖
来源期刊 强激光与粒子束 学科 工学
关键词 激光预处理 缺陷 能量覆盖 高反射膜
年,卷(期) 2012,(6) 所属期刊栏目 ICF与激光等离子体
研究方向 页码范围 1385-1390
页数 分类号 TN249
字数 4202字 语种 中文
DOI 10.3788/HPLPB20122406.1385
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨李茗 35 223 9.0 12.0
2 代福 4 38 4.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
激光预处理
缺陷
能量覆盖
高反射膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
9833
总下载数(次)
7
总被引数(次)
61664
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