四光束干涉单次曝光构造含平面缺陷三维周期性微纳结构

• 作者: 张自丽 葛辉良 陈小军
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光子晶体 四光束干涉 平面缺陷 红外反射光谱
• 年，卷（期）: 2012,（17）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 308-313
• 分类号: TN16
• 语种: 中文

摘要

本文使用多光束干涉方法构造三维周期性微纳结构.通过多次匀胶与单次曝光结合, 在负光刻胶SU8上刻蚀出含平面缺陷的类金刚石结构（fcc-like）光子晶体.扫描电子显微镜（SEM）观测显示, 相比无缺陷光子晶体结构,该结构在（111）晶面上存在清晰可见的平面缺陷.通过控制匀胶时的转速, 可以精确控制平面缺陷厚度在适合的范围.傅里叶红外反射光谱测试显示完整周期微纳结构在（111）方向上 有明显的特征峰,两个特征反射峰中心波长接近1.2 μm和2.4 μm. 含缺陷的结构则在反射光谱特征峰中掺入了明显的凹陷,并且随着平面缺陷的厚度增大, 缺陷模从处于2.4 μm禁带移至1.2 μm禁带处.提取SEM图中的结构参数, 用FDTD方法模拟分析,发现模拟结果与实验值基本一致,证明了平面缺陷不但存在,而且面积较大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	葛辉良		24	62	5.0	7.0
2	张自丽		6	5	2.0	2.0