磁控溅射技术制备TiO2薄膜的研究进展

• 作者: 卫会云 巩毛毛 张笑妍 邢杰
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钛薄膜 工艺参数 结构 形貌 光学性能
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 765-769
• 分类号: O657.37|O657.32
• 字数: 4323字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-8138.2012.02.028

摘要

介绍了磁控溅射法镀膜的基本原理,综述了近年来关于溅射功率、工作压强、氩氧比例、沉积温度和退火等工艺参数以及掺杂对TiO2薄膜结构、形貌和光学性质影响的研究进展,并对磁控溅射技术制备TiO2薄膜的发展方向进行了展望.