高阻外延层电阻率均匀性控制技术分析

• 作者: 傅颖洁 殷海丰 陈涛
• 来源期刊: 甘肃科技
• 学科: 工学
• 关键词: 材料加工工程 外延层 自掺杂 电阻率 均匀性 滞流层
• 年，卷（期）: 2012,（14）
• 所属期刊栏目: 技术创新
• 页码范围: 17-19,162
• 分类号: TP216
• 字数: 3374字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0952.2012.14.006

摘要

随着高频大功率器件的广泛应用,对用于制作器件的外延片的要求也越来越高,其中最重要的是外延层电阻率.为了提高器件的工作频率与工作电压,要求外延层电阻率要高,电阻率均匀性要好.而高阻外延层的电阻率由于受到自掺杂与系统杂质的影响,很难获得好的电阻率均匀性.通过对外延生长过程中杂质的引入,以及不同杂质的来源及特点进行深入分析,针对不同杂质来源的控制提出有效的解决方法,保障了生长出电阻率均匀性好的高阻外延层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈涛	中国电子科技集团公司第四十六研究所	23	41	4.0	4.0
2	殷海丰	中国电子科技集团公司第四十六研究所	4	2	1.0	1.0
3	傅颖洁	中国电子科技集团公司第四十六研究所	3	1	1.0	1.0