LaAlO3顶层对Pb(Zr,Ti)O3薄膜微结构和性能的影响

• 作者: 刘云杰 张鹰 朱俊 郝兰众
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 顶层 铁电极化 漏电流
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 36-38
• 分类号: TB34
• 字数: 1520字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-023X.2012.04.011

摘要

利用脉冲激光沉积(PLD)法,在LaAlO3(LAO)基片上外延生长了高质量的PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)薄膜.通过增加10nm厚的LAO顶层,所制备PZT薄膜的铁电剩余极化(Pr)由28.8μC/cm2增加为55.1μC/cm2.通过对微结构分析,表明薄膜电学性能的增强主要来源于LAO顶层对PZT薄膜表面形貌的优化.另外,与Pr不同,随LAO顶层厚度的增加,PZT薄膜的矫顽场单调增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹰	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	47	169	7.0	9.0
2	朱俊	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	34	102	5.0	6.0