分步法高速沉积微晶硅薄膜

• 作者: 卢景霄 李新利 李瑞 焦岳超 王果 高海波
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 微晶硅薄膜 非晶孵化层 高速沉积 甚高频等离子体增强化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 475-481
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

为提高微晶硅薄膜的纵向结晶性能,在甚高频等离子体增强化学气相沉积技术的基础上,采用过渡参数缓变和两步法相结合的方法在普通玻璃衬底上高速沉积薄膜。当功率密度为2.1 W/cm~2,硅烷浓度在6%和9.6%之间变化时,从薄膜方向和玻璃方向测算的Raman晶化率的差异维持在2%以内.硅烷浓度为9.6%时,薄膜沉积速率可达3.43 nm/s,从薄膜方向和玻璃方向测算的Raman晶化率分别为50%和48%,差异的相对值仅为4.O%.合理控制过渡阶段的参数变化,可使两个方向的Raman晶化率差值下降到一个百分点.表明采用新方法制备薄膜,不仅可以抑制非晶孵化层的形成,改善微晶硅薄膜的纵向结构,还为制备优质薄膜提供了较宽的参数变化空间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	焦岳超	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	3	16	2.0	3.0
2	卢景霄	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	100	570	12.0	17.0
3	王果	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	4	7	2.0	2.0
4	高海波	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	4	3	1.0	1.0
5	李新利	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	5	9	2.0	2.0