铜沉淀对直拉硅单晶中洁净区形成的影响

• 作者: 吉川 张光超 徐进 王娜婷 王永志
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 直拉单晶硅 铜沉淀 洁净区
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：结构、力学和热学性质
• 页码范围: 310-317
• 分类号: TQ460.8
• 语种: 中文

摘要

研究普通热处理和快速热处理工艺下直拉单晶硅中过渡族金属铜杂质对洁净区生成的影响.通过腐蚀和光学显微镜研究发现,常规高一低.高三步洁净区生成热处理样品中,第一步高温热处理前对样品铜沾污,样品中没有洁净区生成,高密度的铜沉淀布满了样品整个截面.而第二步、第三步热处理过程中引入铜杂质不影响洁净区的生成.研究表明,高温热处理过程中生成的铜沉淀不能溶解是导致洁净区不能形成的最主要原因.另外,由于不同温度下热处理,导致引入铜杂质的平衡浓度不同,会在一定程度上影响洁净区的厚度.对于快速热处理样品,可以得到相似的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王永志	厦门大学材料学院	2	1	1.0	1.0
2	王娜婷	厦门大学材料学院	1	0	0.0	0.0
3	吉川	厦门大学材料学院	2	1	1.0	1.0
4	张光超	厦门大学材料学院	2	0	0.0	0.0