用于1053nm高功率脉冲激光的有序介孔减反射膜

• 作者: 吕海兵 孙菁华 徐耀 晏良宏 袁晓东
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 有序介孔 氧化硅 减反射膜 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2012,（20）
• 页码范围: 384-390
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

以非离子表面活性剂F127为模板，正硅酸乙酯为硅源，在酸性条件下合成胶体通过溶剂蒸发诱导自组装的方式制备了单层薄膜，经氨气预处理和高温煅烧除去模板剂后得到介孔氧化硅薄膜．利用同步辐射掠入射x射线衍射、氮气吸脱附和透射电子显微镜研究了薄膜的介观结构，发现薄膜内部呈现有序的笼型孔道结构，可归属于体心立方排列．通过紫外．可见光谱仪和椭偏仪研究了薄膜的光学性质，在1053nm波长处光学透射率可达99．9％以上，折射率可依F127／Si摩尔比而变．采用原子力显微镜研究了薄膜的表面性质，薄膜表面平整，平均粗糙度仅为1．2nm．使用1053nm激光测试薄膜的激光损伤阈值，所有样品阈值均大于25J．cm≈（脉宽为1ns）．该薄膜制备方法有望成为一种大口径减反射膜制备新方法．

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁晓东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	114	624	13.0	17.0
2	吕海兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	49	310	9.0	14.0
3	徐耀	中国科学院山西煤炭化学研究所中国科学院炭材料重点实验室	61	560	13.0	21.0
4	晏良宏	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	17	122	7.0	10.0