直流反应磁控溅射TiN薄膜表面形貌研究

• 作者: 吴卫 李丽 杨翠丽
• 来源期刊: 赤子
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN薄膜 反应磁控溅射 AFM RMS
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 科技论坛
• 页码范围: 179
• 分类号: O484.1
• 字数: 975字
• 语种: 中文

摘要

研究溅射电流对TiN薄膜表面形貌的影响.结果表明:当其他参数不变的情况下,薄膜表面粗糙度(RMS)随电流的增大先变大后变小.在电流达到3A时,粗糙度达到最小值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴卫	西华大学材料科学与工程学院	42	300	11.0	15.0
2	李丽	齐齐哈尔工程学院机电系	61	333	7.0	17.0
3	杨翠丽	齐齐哈尔工程学院机电系	23	18	2.0	3.0