B掺杂对Ti薄膜结构与性能的影响

• 作者: 何锫兵 廖国 张玲 李俊 许华 谌家军
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti薄膜 B掺杂 表面形貌 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（18）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：结构、力学和热学性质
• 页码范围: 420-427
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

采用双靶共溅射方法制备了微量B掺杂的Ti薄膜样品，利用x射线光电子能谱、扫描电子显微镜和x射线衍射仪对样品的掺杂原子浓度、表面形貌、晶型结构、晶粒尺寸和应力进行了分析表征．研究表明：掺杂后的Ti薄膜晶粒得到明显细化，并随着掺杂浓度的增大，薄膜的晶粒尺寸呈减小趋势，当掺杂浓度为5．50at％时，Ti薄膜晶粒尺寸减小为1．3nm，呈现出致密的柱状结构．B掺杂后的Ti薄膜应力由压应力转变为张应力．