大口径多层介质膜光栅衍射效率测量及其在制作工艺中的应用

• 作者: 付绍军 刘正坤 刘颖 周小为 徐向东 洪义麟 邱克强
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 衍射效率 多层介质膜光栅 离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2012,（17）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 252-260
• 分类号: O436.1
• 字数: 2769字
• 语种: 中文

摘要

多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件.为了满足国内强激光系统的迫切需求, 在大口径多层介质膜光栅的研制过程中,建立了单波长自准直条件下的衍射效率测量方法及其误差分析. 结果表明误差主要由探测器的噪声和测试人员的差异产生,对衍射效率测试精度的影响是±1%. 在此基础上,将光栅衍射效率及其分布测量技术应用于光栅制作工艺中, 作为大口径光栅无损检测的一种手段,如判断光栅掩模是否能进行离子束刻蚀、 离子束刻蚀的在线监测和是否需要再刻蚀,从而实现对大口径多层介质膜光栅离子束刻蚀过程的定量、 科学控制,提高了离子束刻蚀光栅制作工艺的成功率.利用上述技术,已成功研制出多块最大尺寸为 430 mm× 350 mm、线密度1740线/mm、平均衍射效率大于95%的多层介质膜光栅. 实验结果表明,该方法操作简单、测量快速准确,不必检测光栅微结构. 为大口径多层介质膜光栅研制的无损检测工程化奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
2	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
3	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
4	刘颖	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	158	3777	30.0	58.0
5	邱克强	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	25	135	6.0	10.0
6	刘正坤	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	32	132	6.0	9.0
7	周小为	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	4	33	3.0	4.0