非晶熔石英表面等离子体刻蚀过程中的表面晶化研究

• 作者: 吴卫东 唐永建 王锋 蒋晓东
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶态熔石英 结晶态α方石英 低压等离子刻蚀
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 296-300
• 分类号: TQ226.61
• 语种: 中文

摘要

本工作采用电子回旋共振（ECR）低压等离子体刻蚀技术,刻蚀非晶熔石英表面.Ar/CF_4为反应气体刻蚀后再经O等离子体钝化,非晶熔石英表面出现晶化现象.晶化层约几百纳米厚.Ar/CF_4在ECR的电磁场作用下产生F离子与C离子,F离子使熔石英表面的Si-O共价键断裂,并释放出O离子.C离了与O离子迅速键合生成CO_2,而被断键的Si原子与四个F原子键合生成气态SiF4.熔石英原始表面被去除的同时,在新的表面留下大量不饱和Si原子.不饱和Si原子在高温条件下被O等离子钝化,形成结晶态α方石英.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	吴卫东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	140	1087	18.0	26.0
3	蒋晓东	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	47	476	14.0	19.0