不同浓度过氧化脲对牙龈上皮细胞生长影响的实验研究

• 作者: 伊元夫 朱晓英 王晓玲 郭红延
• 来源期刊: 中国美容医学
• 学科: 医学
• 关键词: 过氧化脲 牙龈上皮细胞 细胞凋亡
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 1337-1339
• 分类号: R783.1|Q813.1
• 字数: 2942字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-6455.2012.09.027

摘要

目的:评价不同浓度过氧化脲对体外培养的人牙龈上皮细胞生长的影响,获得不同浓度过氧化脲引起人牙龈上皮细胞凋亡的时间范围.方法:体外培养人牙龈上皮细胞并进行鉴定,采用含10％及20％过氧化脲的EpiLife上皮细胞专用无血清培养基进行培养,选取不同时间段计算细胞死亡率.结果:体外培养的人牙龈上皮细胞为多边形并呈铺路石状外观,角蛋白染色阳性,含10％过氧化脲培养基进行培养90s后细胞大量死亡,含20％过氧化脲培养基进行培养60s后细胞大量死亡.结论:过氧化脲对体外培养的人牙龈上皮细胞具有较强的细胞毒性,临床常用过氧化脲污染牙龈时间不能超过1min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭红延	武警总医院口腔科	21	45	4.0	5.0
2	王晓玲	武警总医院口腔科	30	96	6.0	8.0
3	朱晓英	武警总医院口腔科	24	101	6.0	9.0
4	伊元夫	武警总医院口腔科	30	224	10.0	12.0