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摘要:
离子注入技术是20世纪60年代开始发展起来的一种在很多方面都优于扩散方法的掺杂工艺.集成电路工业的发展已对离子注入技术提出了越来越高的要求.本文通过介绍离子注入技术的原理和目的,主要特点,特性分析,可以清楚地认识到离子注入技术的重要性,对离子注入技术的改进是未来高精工艺的发展方向.
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文献信息
篇名 浅析离子注入技术
来源期刊 科技风 学科
关键词 离子注入 主要特点 特性分析 控制方法
年,卷(期) 2012,(22) 所属期刊栏目 科技前沿
研究方向 页码范围 40
页数 1页 分类号
字数 956字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 凌筱清 2 4 1.0 2.0
2 顾翊锬 1 4 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
离子注入
主要特点
特性分析
控制方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技风
旬刊
1671-7341
13-1322/N
16开
河北省石家庄市
1988
chi
出版文献量(篇)
77375
总下载数(次)
264
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119910
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