化学气相沉积法制备TiB2涂层工艺的研究

• 作者: 何庆兵 吴护林 孙彩云 张隆平 易同斌 李立
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiB2涂层 显微结构 沉积速率
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 81-84
• 分类号: TQ134.11
• 语种: 中文

摘要

以TiCl4-BCl3-H2为反应体系,采用化学气相沉积技术,在低碳钢和石墨表面成功沉积了TiB2涂层,并研究了沉积温度、气体流量和基体类型对涂层显微结构和显微硬度的影响.结果表明:沉积温度较高时,低碳钢表面的TiB2涂层晶粒取向随机,结晶度较好,沉积温度较低时则呈柱状晶,晶粒取向随机时的显微硬度高于呈柱状晶时的显微硬度；基体类型对涂层沉积速率的影响显著,在980℃,BCl3流量100 mL/min的条件下沉积1h,低碳钢表面的涂层厚度为20μm,而石墨表面的涂层厚度为44～ 70 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张隆平		25	235	8.0	15.0
2	吴护林		34	275	8.0	15.0
3	易同斌		9	41	4.0	6.0
4	李立		9	40	4.0	6.0
5	孙彩云		5	21	4.0	4.0
6	何庆兵		9	72	5.0	8.0