高能激光对成像制导系统的干扰效果分析

• 作者: 张凌晓 许明圣
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 工学
• 关键词: 高能激光 激光干扰 成像制导
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 激光应用与系统
• 页码范围: 66-67
• 页数: 2页
• 分类号: TN249
• 字数: 1572字
• 语种: 中文

摘要

提为了分析高能激光对成像制导系统的干扰效果，从制导武器的红外辐射强度出发，介绍了成像制导干扰效果评估的两种基本方法。以对比度评估方法为例，模拟了不同干扰强度、不同干扰质心激光干扰条件下成像制导系统的跟踪效果。结果表明对成像型制导系统实施有效激光干扰的手段主要有两个：一是增加激光干扰源的激光功率；二是激光干扰质心要尽可能地远离目标质心。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张凌晓		21	36	4.0	5.0
2	许明圣		4	3	1.0	1.0