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微型线圈-铁芯结构传感器中聚酰亚胺的低成本刻蚀和平坦化方法
微型线圈-铁芯结构传感器中聚酰亚胺的低成本刻蚀和平坦化方法
作者:
侯晓伟
刘诗斌
杨尚林
段红亮
郭博
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
MEMS
平坦化
湿法刻蚀
聚酰亚胺
微型磁通门传感器
摘要:
研究了预亚胺化温度、时间以及刻蚀时间对聚酰亚胺湿法刻蚀结果的影响。预亚胺化后2.5μm厚的PI-5型聚酰亚胺采用EPG 533型光刻胶作为掩膜时,预亚胺化采用90℃/5 min~140℃/10 min方案,采用1% KOH溶液,15 s的显影/刻蚀时间会得到较好的刻蚀结果。在此基础上,通过实验研究了一种低成本的填充式平坦化技术。通过在底层线圈上旋涂第1层聚酰亚胺,湿法刻蚀去除铜线上的聚酰亚胺保留间隙中聚酰亚胺,然后再旋涂第2层聚酰亚胺的方式,完成了第2层聚酰亚胺的平坦化。与直接在底层线圈上旋涂聚酰亚胺而不做平坦化处理比较,起伏高度差从1.8μm降低到150 nm,且起伏缓慢、无明显台阶。应用这种技术制备了一种采用线圈铁芯结构的微型磁通门传感器并进行了测试,传感器工作正常,性能优良。
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文献信息
篇名
微型线圈-铁芯结构传感器中聚酰亚胺的低成本刻蚀和平坦化方法
来源期刊
传感技术学报
学科
工学
关键词
MEMS
平坦化
湿法刻蚀
聚酰亚胺
微型磁通门传感器
年,卷(期)
2013,(10)
所属期刊栏目
生物化学类传感器
研究方向
页码范围
1328-1333
页数
6页
分类号
TQ323.7|TN405.95|TM936.2
字数
5051字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-1699.2013.10.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘诗斌
西北工业大学电子信息学院
84
743
15.0
22.0
2
杨尚林
西北工业大学电子信息学院
7
58
5.0
7.0
3
郭博
西北工业大学电子信息学院
11
78
6.0
8.0
4
侯晓伟
西北工业大学电子信息学院
7
32
4.0
5.0
5
段红亮
西北工业大学电子信息学院
4
9
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研究主题发展历程
节点文献
MEMS
平坦化
湿法刻蚀
聚酰亚胺
微型磁通门传感器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
传感技术学报
主办单位:
东南大学
中国微米纳米技术学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1004-1699
CN:
32-1322/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市四牌楼2号东南大学
邮发代号:
创刊时间:
1988
语种:
chi
出版文献量(篇)
6772
总下载数(次)
23
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