外加磁场对纳米镍膜电磁屏蔽性能的影响

• 作者: 张海燕 徐军军 曾国勋 杨振大
• 来源期刊: 现代物理
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 金属镍薄膜 屏蔽效能 矫顽力
• 年，卷（期）: xdwl_2013,（1）
• 页码范围: 38-42
• 页数: 5页
• 分类号: TB3

摘要

用磁控溅射在柔性衬底上制备金属镍纳米薄膜,研究了磁场对薄膜样品的形貌的影响,分析了在有无磁场条件下制备的薄膜样品的X衍射,饱和磁化强度和矫顽力以及在电磁波频段为3.95~5.85 GHz内的电磁屏蔽效果。结果表明,在磁场条件下的制备的薄膜样品要比无磁场条件下制备的薄膜的结晶性好;有外加磁场下制备的薄膜矫顽力为112.89 Oe,无外加磁场条件下制备的薄膜的矫顽力为14.82 Oe,外加磁场下制备的薄膜矫顽力要比无外加磁场条件下制备的薄膜的矫顽力增加7.6倍。磁场下生长的薄膜样品的屏蔽效果明显优于无磁场下薄膜的屏蔽效果,屏蔽效能平均值提高了30%。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张海燕	广东工业大学材料与能源学院	195	1122	15.0	22.0
2	曾国勋	广东工业大学材料与能源学院	50	257	8.0	13.0
3	杨振大	广东工业大学材料与能源学院	3	5	1.0	2.0
4	徐军军	广东工业大学材料与能源学院	2	0	0.0	0.0