溅射镍钇涂层1000℃高温氧化机理研究

• 作者: 成艳芳 时军 李露 胡建书 靳惠明
• 来源期刊: 化学工程与装备
• 关键词: 磁控溅射 高温氧化 稀土 钇
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究开发
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

研究了纯镍表面磁控溅射Ni-0.5Y微晶涂层在1000℃空气中的恒温氧化和循环氧化行为.通过扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对涂层以及表面NiO氧化膜的形貌和结构进行了研究.结果表明,Ni-0.5Y徽晶涂层与基体镍相比有更低的氧化增重速率,表面NiO氧化膜的晶粒尺寸明显减小,膜的高温塑性得以改善.同时,氧化膜内的压应力水平也有所降低,因而改善了NiO氧化膜的粘附性和保护性.磁控溅射涂层的徽晶结构以及稀土元素钇的存在均有助于提高涂层的抗高温氧化性能.