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摘要:
多晶硅薄膜太阳电池因兼具低材料消耗、低成本、高稳定性及多晶硅薄膜微电子器件的成熟工艺而备受瞩目.对多晶硅薄膜太阳电池的结构和制备工艺流程进行了详细阐述,指出当前多晶硅薄膜太阳电池的关键研究方向,即衬底的选择和高质量多晶硅薄膜的实现.特别是针对高质量多晶硅薄膜的制备,系统地介绍了化学气相沉积(CVD)、磁控溅射(MS)、固相晶化(SPC)、激光晶化(LC)以及快速热退火(RTA)等制备方法的工作原理、特点和优劣.综合阐述了各项技术的发展现状,并对上述技术及其在多晶硅薄膜太阳电池中的应用前景进行了客观评述与展望.
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文献信息
篇名 多晶硅薄膜太阳电池
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 太阳电池 多晶硅薄膜 化学气相沉积(CVD) 磁控溅射(MS) 快速热退火(RTA)
年,卷(期) 2013,(3) 所属期刊栏目 器件与技术
研究方向 页码范围 137-142,166
页数 分类号 TM914.4
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2013.03.002
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研究主题发展历程
节点文献
太阳电池
多晶硅薄膜
化学气相沉积(CVD)
磁控溅射(MS)
快速热退火(RTA)
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