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Semiconductor Typ e Dep endent Comparison of Electrical Characteristics of Pt/InP Structures Fabricated by Magnetron Sputtering Technique in the Range of 20-400 K
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主办单位：
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出版周期：
月刊
ISSN：
2311-6706
CN：
31-2103/TB
开本：
出版地：
上海市东川路800号
邮发代号：
创刊时间：
语种：
eng
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