Cu层溅射时间对两种ZnO复合透明导电薄膜光电性能的影响

• 作者: 刘志学 张冰 赵立萍 陈薇薇
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO复合薄膜 磁控溅射 光电性能
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2326字
• 语种: 中文

摘要

本文采用射频反应磁控溅射法溅射ZnO靶,直流磁控溅射法溅射Cu靶,在玻璃衬底上制备了不同复合结构的Cu、ZnO透明导电薄膜,研究了Cu层溅射时间对薄膜结构形貌和光电性能的影响.结果表明Cu夹层对膜系的导电性起主要作用,电阻率先随沉积Cu层溅射时间的增加而显著降低,后变化趋于平缓.样品可见光范围内透射率随Cu层溅射时间增加而降低.并且比较相同条件下制备的两种薄膜后得出,ZnO/Cu薄膜电阻率相对较低,ZnO/Cu/ZnO薄膜透射率相对略高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张冰	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点实验室	26	50	4.0	6.0
2	赵立萍	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点实验室	11	40	5.0	6.0
3	刘志学	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点实验室	22	14	3.0	3.0
4	陈薇薇	牡丹江师范学院新型碳基功能与超硬材料黑龙江省重点实验室	11	30	3.0	4.0