非晶硅薄膜的YAG激光晶化工艺研究

• 作者: 张华 张竹青 李志锋 王强 花国然
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 激光脉冲频率 激光脉宽 脉冲占空比
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 48-50,58
• 页数: 4页
• 分类号: TN249
• 字数: 2954字
• 语种: 中文

摘要

应用YAG激光器在不同工艺条件(激光脉冲频率及脉宽)下对非晶硅薄膜进行了微晶化处理.采用XRD和AFM对所制薄膜的物相结构和表面形貌进行了分析,并探索了激光脉冲占空比对非晶硅薄膜晶化的影响.结果表明,非晶硅薄膜在不同激光脉冲占空比情况下的结晶变化趋势均为多晶硅衬底表层先非晶化,后与非晶硅薄膜一起结晶,而利于其结晶的最佳占空比为1/25.已晶化硅薄膜的晶粒尺寸随占空比的增加先变大后变小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张华	南通大学机械工程学院	51	133	7.0	9.0
2	王强	南通大学电子信息学院	60	132	6.0	8.0
3	花国然	南通大学机械工程学院	76	214	7.0	11.0
4	张竹青	南通大学机械工程学院	12	15	2.0	3.0
5	李志锋		2	6	2.0	2.0