复杂工件表面磁控溅射镀膜均一化控制的研究

• 作者: 王德山
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 复杂工件 表面镀膜 磁控溅射 均一化调控
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3296字
• 语种: 中文

摘要

介绍了复杂型腔工件表面薄膜涂覆机理与技术特点,针对复杂工件镀膜过程中存在靶材消耗不均匀产生凹状侵蚀环、薄膜厚度不均匀致密等诸多问题,实验采用旋转式柱状磁控溅射靶,在镀膜机的不同位置安装多靶多材,靶能够自由旋转来实现定向镀膜需要;采用多个磁控溅射靶和设置辅助磁场对非平衡磁控溅射阴极靶的结构改进,提高真空镀膜室等离子体密度,进而提高溅射工件偏流实现沉积镀膜等系列创新研究,目的为实现在非同一平面内的,具有复杂外形和内腔结构的工件表面镀上厚度均匀、致密连续的功能性复合薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王德山		23	27	3.0	4.0