H2O2敏化H4SiW12O40/SiO2光催化降解甲基橙

• 作者: 周国辉 喻莉 杨志远 杨水金 王凤标
• 来源期刊: 徐州工程学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 硅钨酸 甲基橙 SiO2 光催化 降解
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 专家特稿
• 页码范围: 1-6
• 页数: 6页
• 分类号: TQ426.91
• 字数: 3258字
• 语种: 中文

摘要

采用溶胶-凝胶技术将Keggin型H4SiW12O40负载在SiO2上,并用H2O2溶液对其进行敏化,制得H4SiW12O40/SiO2/H2O2光催化剂.考察在模拟自然光条件下,甲基橙的初始浓度、溶液pH以及催化剂用量对甲基橙可见光催化降解的影响.实验发现,在甲基橙初始质量浓度为15mg/L、溶液pH为1.0、催化剂的质量浓度为6 g/L的优化情况下,光降解3.0h,甲基橙的降解率达到99.0％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨水金	湖北师范学院化学化工学院	515	2974	26.0	36.0
3	喻莉	湖北师范学院化学化工学院	19	43	4.0	5.0
5	杨志远	湖北师范学院化学化工学院	12	40	4.0	6.0
9	周国辉	湖北师范学院化学化工学院	6	18	3.0	4.0
17	王凤标	湖北师范学院化学化工学院	1	8	1.0	1.0