碳化硅（SiC）抛光工艺研究

• 作者: 冯渊 应常宇 胡忠 黎霞
• 来源期刊: 云光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 碳化硅 精磨 抛光模 抛光剂 抛光
• 年，卷（期）: ygjs,（2）
• 页码范围: 21-23
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.24

摘要

摘要：碳化硅（SiC）作为一种优良的反射镜材料，已逐渐应用于红外光学系统之中。对碳化硅材料的加工方法做出研究和探讨，就碳化硅的抛光工艺研究进行详细的说明，分析影响抛光质量的原因，指出加工的难点所在，并给出相应的加工工艺。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡忠		4	13	1.0	3.0
2	冯渊		2	0	0.0	0.0
3	黎霞		1	0	0.0	0.0
4	应常宇		2	0	0.0	0.0