PET基片上射频磁控溅射不同厚度ITO薄膜的光电学特性

• 作者: 吕佩伟 林丽梅 盖荣权 赖发春 郑卫峰
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 掺锡氧化铟薄膜 PET柔性衬底 厚度 磁控溅射 光电学性质
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 页码范围: 48-52
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3387字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射技术,室温下在PET柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,样品的结构、形貌和光电学性质分别用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw方法测量.实验结果表明:在其它参数不变的条件下,随着溅射时间的增加薄膜的厚度增大,而薄膜的颗粒大小和表面粗糙度也随之变大；方块电阻、电阻率随样品厚度的增加而减小,相应的迁移率减少,载流子浓度变大.当样品厚度为148 nm时,样品的方块电阻为26.5 Ω·口-1、迁移率为19.1 cm2 ·V-1 ·s-1、载流子浓度为8.43×1020 cm-3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林丽梅	福建师范大学物理与能源学院	28	139	8.0	11.0
2	赖发春	福建师范大学物理与能源学院	37	216	8.0	13.0
3	吕佩伟	福建师范大学物理与能源学院	4	10	1.0	3.0
4	郑卫峰	福建师范大学物理与能源学院	40	61	5.0	6.0
5	盖荣权	福建师范大学物理与能源学院	11	70	5.0	8.0