陶瓷基体热喷涂涂层的研究进展

• 作者: F.-L.Toma L.-M.Berger M.Fries S.Scheitz S.Thiele T.Hoffmann U.Klotzbach 王爱迪
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 陶瓷基体 喷砂 激光刻蚀
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 译文
• 页码范围: 68-76
• 页数: 9页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2013.03.001

摘要

由于表面改性的需要,陶瓷基体对热喷涂涂层方案的需求也在日益增加.根据基体结构和性能的不同,需要开发特殊的基体相关的制备概念.本文展示一些在烧结氮化硅和AlN陶瓷上沉积涂层的概念.使用传统的喷砂工艺处理的基体近表面区域粗糙度低并会带来损害.作为替代方法,激光刻蚀被用来改变陶瓷基体的热喷涂表面特性.通过选择适当的激光刻蚀参数和喷涂方法,成功地制备了与陶瓷基体具有良好结合性能的大气等离子喷涂(APS)和悬浮液超音速火焰喷涂(suspension-HVOF A12O3)涂层.