MFI型分子筛膜晶内孔道的在线CVD调变

• 作者: 吴再娟 张玉亭 洪周 顾学红
• 来源期刊: 南京工业大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 分子筛膜 修饰 H2/CO2分离
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 页码范围: 43-47
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 2741字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7627.2013.04.009

摘要

采用在线化学气相沉积(CVD)法对全硅MFI型分子筛膜进行晶内孔道修饰,考察晶间缺陷对膜晶内孔道修饰效果的影响.采用硅烷水解法对缺陷较多的膜进行缺陷孔的修补,结合扫描电子显微(SEM),观察膜微结构的变化.结果表明:分子筛膜表面缺陷显著影响晶内孔道调变效果.500℃时,缺陷较少的膜经晶内修饰后H2/CO2分离因子由修饰前的2.7提高到42.3,H2渗透性由2.25×10-7 mol/(m2·s·Pa)降至1.52×10-7mol/(m2·s·Pa).经缺陷修补后的分子筛膜,其晶内修饰后的H2/CO2分离因子比未修补的膜有一定幅度的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾学红	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	29	85	5.0	7.0
2	洪周	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	7	14	3.0	3.0
3	吴再娟	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	2	7	2.0	2.0
4	张玉亭	南京工业大学材料化学工程国家重点实验室	13	20	3.0	3.0