加压浸出脱除工业硅中杂质铝的研究

• 作者: 于站良 谢克强 谢刚 陈家辉 马文会
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 工业硅 加压浸出 杂质Al去除
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 453-460
• 分类号: TQ177
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2013.03.019

摘要

分析了杂质Al元素在工业硅中的存在形式,并采用加压浸出方法对其进行有效去除.比较了盐酸浓度、反应温度、反应压强、液固比、硅粉颗粒粒度、反应时间等因素对杂质Al脱除效率的影响.实验结果表明,加压浸出过程的较佳反应条件为盐酸浓度4 mol.L-1,反应温度150～160℃,反应压强1.5 ～1.6 MPa,硅粉最大颗粒尺寸为50μm,液固比:4:1,反应时间2h,在此反应条件下,杂质A1的去除效率达到75％,重现性实验研究表明加压浸出处理后的工业硅中杂质A1的残余量小于3×10-4.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢克强	昆明理工大学真空冶金国家工程实验室	31	167	9.0	11.0
2	马文会	昆明理工大学真空冶金国家工程实验室	125	1141	17.0	29.0
3	谢刚	昆明冶金研究院冶金研究所	75	262	8.0	12.0
4	于站良	昆明冶金研究院冶金研究所	23	104	5.0	8.0
5	陈家辉	昆明冶金研究院冶金研究所	15	86	6.0	9.0