红光OLED空穴注入层2-TNATA工艺及其性能研究

• 作者: 夏艳峰 安涛 袁进
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 红光OLED 空穴注入层 2-TNATA 工艺
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 页码范围: 444-449
• 页数: 6页
• 分类号: TN383
• 字数: 3779字
• 语种: 中文

摘要

采用真空热蒸镀的方法在高精度膜厚控制仪的监控下,对多层红光OLED空穴注入层2-TNATA有机薄膜蒸镀工艺的条件及厚度对器件的发光性能进行实验研究.实验表明制备理想的2-TNATA薄膜工艺条件为,基板与蒸发源距离为24 cm,束源炉蒸发孔径为1.5 mm,基片温度为50℃,蒸镀温度为230℃,具有空穴注入层器件较无此层器件的发光性能得到显著提高,其空穴注入层最佳厚度为20 nm.该器件在12 V电压下亮度从1800 cd/m2提高到7600 cd/m2,提高了4倍,发光效率从1.8 cd/A提高到2.6 cd/A,提高了1.4倍,光谱峰值为618 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安涛	西安理工大学自动化与信息工程学院	50	182	7.0	11.0
2	夏艳峰	西安理工大学自动化与信息工程学院	2	12	2.0	2.0
3	袁进	西安理工大学自动化与信息工程学院	3	5	2.0	2.0