电流密度对电沉积锰结构及性能的影响

• 作者: 姚力军 朱承飞 瞿澄 袁菊
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积锰 电流密度 电流效率 镀层结构
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.19
• 字数: 2276字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2013.11.001

摘要

锰被广泛应用于钢材中,研究制备高质量的金属锰具有很重要的现实意义.采用石墨阳极,无硒硫氨酸盐电解液,在不锈钢表面电沉积金属锰,采用恒电流法研究了电流密度对电流效率以及镀层厚度的影响.利用X-射线衍射仪测试镀层结构,扫描电镜观察镀层表面形貌,维氏硬度计测试镀层硬度.结果表明,Jk为14 A/dm2时η达到57.63％,镀层δ为37.07 μm,硬度为509.53 HV,获得表面形貌和晶体结构较优的金属锰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱承飞	南京工业大学材料科学与工程学院	50	239	9.0	12.0
2	瞿澄	南京工业大学材料科学与工程学院	4	5	1.0	2.0
3	袁菊	南京工业大学高技术研究院	3	4	1.0	2.0
4	姚力军	南京工业大学高技术研究院	4	5	1.0	2.0