不对称交流脉冲电位法制备聚8-羟基喹啉薄膜工艺

• 作者: 刘中兴 刘小勤 徐钦建 曾冬铭 黄凤祥
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 8-羟基喹啉 聚合 电沉积 不对称交流脉冲电位法 镀镍 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 电沉积技术
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.19
• 字数: 4234字
• 语种: 中文

摘要

采用不对称交流脉冲电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了阶跃电位、阶跃时间、重复次数和溶液中8-羟基喹啉含量等工艺条件对电沉积聚8-羟基喹啉薄膜的影响.分别采用塔菲尔曲线测量、扫描电镜和能谱分析对电沉积后工件的耐蚀性、薄膜的表面形貌和组成进行分析.最佳工艺条件为:8-羟基喹啉0.002 mol/L,氢氧化钠0.4 mol/L,正阶跃电位0.55V,负阶跃电位-0.05V,正阶跃时间0.2 s,负阶跃时间0.1 s,重复次数100.采用最佳工艺处理后,工件的腐蚀电位、腐蚀速率分别为-0.32 V和4.158 1×10-3 g/(m2.h),耐蚀性优于未处理的工件,且与铬钝化处理的工件相当.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾冬铭	中南大学化学化工学院	53	500	14.0	20.0
5	刘中兴		7	21	3.0	4.0
6	黄凤祥	中南大学化学化工学院	5	12	2.0	3.0
7	刘小勤	中南大学化学化工学院	5	15	3.0	3.0
8	徐钦建	中南大学化学化工学院	2	5	2.0	2.0