高真空脉冲激光沉积CeO2(111)/Si(111)薄膜的结构与形貌研究

• 作者: 孙小庆 杨志民 陈军 陈秋云 魏峰
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铈 脉冲激光沉积法 结构特征 表面形貌 折射率
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 389-395
• 分类号: TB383
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0258-7076.2013.03.009

摘要

在高真空条件下,采用脉冲激光沉积法在Si(111)衬底上制备了高度(111)取向的CeO2薄膜.使用反射高能电子衍射仪对薄膜制备过程进行了原位监测,衍射花样为清晰条纹状,显示薄膜结晶质量较好,表面平整光滑.采用X射线衍射仪对不同衬底温度、不同激光能量制备的薄膜进行了结构表征,随着温度升高和能量增强,CeO2薄膜(111)峰逐渐增强且峰位越来越靠近标准峰位,表明CeO2薄膜的取向性变好且薄膜应力逐渐下降.通过椭偏仪对薄膜的折射率进行了表征,结果表明薄膜的光学性能强烈依赖其结晶质量,结晶质量最好的样品折射率接近单晶薄膜.使用高分辨透射电镜表征了样品的横断面,照片显示薄膜内部原子排列有序,结晶质量较好,部分区域与衬底取向略有偏差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈秋云		7	26	3.0	5.0
2	杨志民		40	363	9.0	17.0
3	魏峰		11	43	4.0	6.0
4	孙小庆		1	9	1.0	1.0
5	陈军		4	19	3.0	4.0