基于PDMS微结构模板转印技术的研究

• 作者: 李鑫 李钊 王旭迪 王时飞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 聚二甲基硅氧烷 SU-8光刻胶 有限元分析 粘附能 转印技术
• 年，卷（期）: 2013,（6）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 619-625
• 分类号: TB381
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.06.21

摘要

基于界面间粘附能理论,结合有限元模拟研究聚二甲基硅氧烷(PDMS)微结构模板实现聚合物SU-8光刻胶的图形转移复制的转印机理,分析了微结构转印过程中基底表面能、压力和SU-8胶溶剂对图形转印的影响.结果表明,氧等离子体轰击基底表面可以有效提高基底表面能,保证大面积图形转印成功率；通过有限元方法分析PDMS模板上微结构在压强载荷下的变形情况,确定了保证转印精确度的最大压强载荷为60 kPa; SU-8胶溶液中环戊酮的挥发会造成转印结构的收缩变形,足够大的SU-8胶浓度是保证转印精确度的前提,SU-8 2025光刻胶与环戊酮的体积比大于2时基本可以保证图形转印精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王旭迪		40	192	9.0	12.0
2	李鑫		66	265	8.0	12.0
3	王时飞		4	16	2.0	4.0
4	李钊		1	9	1.0	1.0