电感耦合等离子体原子发射光谱法测定工业硅中8种杂质元素

• 作者: 亢若谷 张云晖 杨晓静 赵建为 金波
• 来源期刊: 冶金分析
• 学科: 化学
• 关键词: 电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES) 工业硅 惰性进样系统 杂质元素
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 页码范围: 55-59
• 页数: 5页
• 分类号: O657.31
• 字数: 2650字
• 语种: 中文

摘要

采用电感耦合等离子体原子发射光谱仪的耐氢氟酸惰性进样系统,在样品用氢氟酸、硝酸、高氯酸溶解完全后无需赶尽氢氟酸和硅基体,直接进样,电感耦合等离子体原子发射光谱法同时测定了工业硅粉中铁、铝、钙、钛、锰、镍、硼和磷8种杂质元素.因为在溶样过程中大部分基体硅已挥发除去,基体效应对铁、铝、钙、钛、锰、镍的测定没有影响,但是对硼和磷的测定仍有影响,这种影响可以采用垂直观测方式克服.按照空白值的3倍标准偏差计算方法的检测限,得到铁、铝、钙、钛、锰、镍、硼和磷的检测限(w/％)分别为0.004,0.001,0.004,0.001,0.000 1,0.000 1,0.000 04和0.000 06.方法已用于工业硅中上述8种杂质元素的测定,测定值与标准方法(GB/T 14849.4-2008)的测定值或认定值相符.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨晓静	昆明冶研新材料股份有限公司质量监督部	2	21	2.0	2.0
2	亢若谷	昆明冶研新材料股份有限公司质量监督部	13	75	6.0	8.0
3	张云晖	昆明冶研新材料股份有限公司质量监督部	5	33	3.0	5.0
4	赵建为	昆明冶研新材料股份有限公司质量监督部	13	61	6.0	7.0
5	金波	昆明冶研新材料股份有限公司质量监督部	5	32	3.0	5.0