430不锈钢腐蚀行为及钝化膜半导体特性的研究

• 作者: 何林英 王保成 董小帅 邢燕婷
• 来源期刊: 太原理工大学学报
• 关键词: 钝化膜 半导体性质 莫特-肖特基 点缺陷模型
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 材料与机械工程
• 页码范围: 579-583
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.36
• 语种: 中文

摘要

使用动电位极化曲线、电化学阻抗谱(EIS)技术和电容电位法(Mott-Schottky)研究了430不锈钢在不同C1-浓度下的腐蚀行为,并结合点缺陷模型(PDM)计算了钝化膜上点缺陷的密度及扩散率.结果表明:C1-浓度的增大,钝化膜上自腐蚀电流增加,弥散系数及膜电阻减小,点蚀加剧；在-0.5～0.5V电位区间,钝化膜表现为n型半导体性质,膜中点缺陷为氧空位和阳离子间隙,溶液浓度的增加,会造成钝化膜内点缺陷浓度和扩散系数的增大.本实验对C1-破坏钝化膜的微观机理研究有一定参考价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王保成	太原理工大学材料科学与工程学院	31	202	10.0	13.0
2	董小帅	太原理工大学材料科学与工程学院	2	6	1.0	2.0
3	何林英	太原理工大学材料科学与工程学院	2	6	1.0	2.0
4	邢燕婷	中北大学材料科学与工程学院	1	6	1.0	1.0