高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术

• 作者: 何金江 尚再艳 朱晓光 熊晓东 罗俊锋 贺昕 陈明
• 来源期刊: 贵金属
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 半导体 溅射靶材 高纯 金 银 铂 钌
• 年，卷（期）: 2013,（z1）
• 所属期刊栏目: 贵金属合金材料
• 页码范围: 79-83
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.3
• 字数: 5093字
• 语种: 中文

摘要

高纯 Au、Ag、Pt、Ru 贵金属及其合金溅射靶材是半导体 PVD 工艺制程中的溅射源材料，广泛用于半导体制造工艺中，成为保证半导体器件性能和发展半导体技术必不可少及不可替代的材料。材料的高纯化、高性能贵金属及其合金靶材的制备（金属熔铸、热机械处理、粉末烧结、焊接等）以及贵金属靶材残靶及加工余料残屑的提纯回收利用是研究发展的重点，以实现贵金属靶材产品的高效增值。