射频磁控溅射制备铝酸锶长余辉发光薄膜

• 作者: 唐美蝶 梁枫 谢伟 邵乐喜 邹长伟
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 磁控溅射 铝酸锶 长余辉 薄膜
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺与装备
• 页码范围: 188-192
• 页数: 5页
• 分类号: O482.3
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上制备稀土掺杂铝酸锶薄膜，在900℃和1100℃下、弱还原气氛中退火，分别得到SrAl2 O4∶Eu2＋，Dy3＋和Sr4 Al14 O25∶Eu2＋，Dy3＋长余辉发光薄膜。结果表明：SrAl2 O4结构是形成Sr4 Al14 O25相结构的中间相；在360 nm激发光激发下，SrAl2 O4∶Eu2＋，Dy3＋薄膜发光峰位于517 nm处左右，发光强度相对略高于Sr4 Al14 O25∶Eu2＋，Dy3＋薄膜，且后者发光峰位于490 nm处左右；Sr4 Al14 O25∶Eu2＋，Dy3＋薄膜的余辉性能优于SrAl2 O4∶Eu2＋，Dy3＋薄膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁枫	湛江师范学院物理科学与技术学院	10	29	3.0	5.0
2	邵乐喜	湛江师范学院物理科学与技术学院	22	106	6.0	9.0
3	谢伟	湛江师范学院物理科学与技术学院	6	13	3.0	3.0
4	邹长伟	湛江师范学院物理科学与技术学院	4	13	3.0	3.0
5	唐美蝶	湛江师范学院物理科学与技术学院	1	4	1.0	1.0