离子束溅射、热舟和电子束法制备深紫外 LaF3薄膜

• 作者: 张玲花 张立超 时光 梅林 高劲松
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 LaF3 热蒸发 离子束溅射 深紫外
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 592-595
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 2184字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2013.05.007

摘要

为了满足深紫外光刻物镜对薄膜的要求，得到低损耗、高稳定性、长寿命的深紫外薄膜，需要选用适当的镀膜工艺方法。分别选取了离子束溅射法、热舟蒸发法和电子束蒸发法优化后的最佳工艺参量，在融石英基底上使用3种方法镀制了单层LaF3薄膜。首先，利用光度法得出3种方法镀制LaF3薄膜在185nm～800nm范围内的折射率n和消光系数k。然后，采用原子力显微镜对薄膜表面粗糙度进行了测量。最后，薄膜的微结构使用X射线衍射仪进行了分析。结果表明，离子束溅射镀制的LaF3薄膜折射率最高、表面粗糙度最低，但吸收较大；电子束蒸发法虽然吸收最小，但是折射率偏低且表面粗糙度较高；热舟蒸发法镀制的LaF3薄膜无论折射率、消光系数还是表面粗糙度都处于3种方法中间位置。综合各项指标，热舟蒸发法最适合于沉积深紫外LaF3薄膜。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张立超	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	31	306	10.0	16.0
2	高劲松	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	63	701	16.0	23.0
3	张玲花	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	7	15	3.0	3.0
4	梅林	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	9	29	4.0	5.0
5	时光	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	9	38	4.0	6.0