连续氩氪离子激光晶化非晶硅薄膜的研究

• 作者: 周德让 段国平 陈俊岭 韩俊鹤 黄明举
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 多晶硅 连续激光晶化 激光功率密度 衬底
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 587-591
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3660字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2013.05.006

摘要

为了研究连续激光晶化非晶硅薄膜中激光功率密度对晶化效果的影响，利用磁控溅射法制备非晶硅薄膜，采用连续氩氪混合离子激光器对薄膜进行退火晶化，用显微喇曼光谱测试技术和场发射扫描电子显微镜研究了薄膜在5 ms固定时间下不同激光功率密度对晶化效果的影响，并对比了普通玻璃片和石英玻璃两种衬底上薄膜晶化过程的差异。结果表明，在一定激光功率密度范围内（0kW/cm2～27.1kW/cm2），当激光功率密度大于15.1kW/cm2时，普通玻璃衬底沉积的非晶硅薄膜开始实现晶化；随着激光功率密度的增大，晶化效果先逐渐变好，之后变差；激光功率密度增大到24.9kW/cm2时，薄膜表面呈现大面积散落的苹果状多晶硅颗粒，晶粒截面尺寸高达478nm；激光功率密度存在一个中间值，使得晶化效果达到最佳；石英衬底上沉积的非晶硅薄膜则呈现与前者不同的结晶生长过程，当激光功率密度为19.7kW/cm2时，薄膜表面呈现大晶粒尺寸的球形多晶硅颗粒，并且晶粒尺寸随着激光功率密度的增大而增大，在27.1kW/cm2处晶粒尺寸达到最大5.38μm。研究结果对用连续激光晶化法制备多晶硅薄膜的研究具有积极意义。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄明举	河南大学物理与电子学院河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室	53	338	12.0	16.0
2	周德让	河南大学物理与电子学院河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室	4	3	1.0	1.0
3	韩俊鹤	河南大学物理与电子学院河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室	21	91	6.0	9.0
4	段国平	河南大学物理与电子学院河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室	4	6	2.0	2.0
5	陈俊岭	河南大学物理与电子学院河南省光电信息材料与器件重点学科开放实验室	2	1	1.0	1.0