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摘要:
提出了一种MEMS器件的圆片级封装技术.通过金硅键合和DRIE通孔制备等关键工艺技术,可以实现真空度从102 Pa到2个大气压可调的圆片级封装.作为工艺验证,成功实现了圆片级真空封装MEMS陀螺仪的样品制备.对封装后的陀螺仪样品进行了剪切力和品质因数Q值测试,剪切力测试结果证明封装样品键合强度达到5 kg以上,圆片级真空封装后陀螺的品质因数Q值约为75 000,对该陀螺的品质因数进行了历时1年的跟踪测试,在此期间品质因数Q的最大变化量小于7‰,品质因数测试结果表明封装具有较好的真空特性.
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文献信息
篇名 一种真空度可调的圆片级封装技术
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 微电子机械系统(MEMS) 圆片级封装(WLP) 密封 深反应离子刻蚀(DRIE) 金硅共晶键合
年,卷(期) 2013,(8) 所属期刊栏目 加工、测量与设备
研究方向 页码范围 534-537
页数 分类号 TN305.94
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2013.08.011
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作者信息
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1 罗蓉 中国电子科技集团公司第十三研究所 8 16 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
微电子机械系统(MEMS)
圆片级封装(WLP)
密封
深反应离子刻蚀(DRIE)
金硅共晶键合
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
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1964
chi
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