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溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响
溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响
作者:
刘先平
宋淑梅
李延辉
杨田林
王雪霞
贾绍辉
辛艳青
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氮化锌薄膜
磁控反应溅射法
结构特性
电学特性
光学特性
摘要:
在玻璃衬底上通过磁控反应溅射法,利用纯金属Zn靶,在N2-Ar等离子体氛围中制备出氮化锌薄膜.X射线衍射谱表明氮化锌具有(4 0 0)择优取向,反方铁锰矿结构.研究了溅射功率对氮化锌薄膜结构、电学及光学性质的影响.
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文献信息
篇名
溅射功率对氮化锌薄膜特性的影响
来源期刊
光电子技术
学科
工学
关键词
氮化锌薄膜
磁控反应溅射法
结构特性
电学特性
光学特性
年,卷(期)
2013,(3)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
155-159
页数
5页
分类号
TN304.2|TN305.8
字数
4254字
语种
中文
DOI
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作者信息
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姓名
单位
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被引次数
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G指数
1
贾绍辉
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氮化锌薄膜
磁控反应溅射法
结构特性
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光电子技术
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
季刊
ISSN:
1005-488X
CN:
32-1347/TN
开本:
16开
出版地:
南京中山东路524号(南京1601信箱43分箱)
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
1338
总下载数(次)
4
总被引数(次)
7328
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