石墨层间化合物成阶过程分析

• 作者: 吕晓猛 吕超 王煊军
• 来源期刊: 炭素技术
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨层间化合物 成阶 扩散
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 综合述评
• 页码范围: 37-40
• 分类号: TB33
• 语种: 中文

摘要

主要从插层剂插入石墨、插层剂的扩散和阶结构的转变3个方面对石墨层间化合物成阶相关的过程进行讨论.从表面扩散、成核和电子转移3个方面介绍了插层剂进入石墨层间的过程;利用单相的方法分析了层内插层剂的扩散;从有无阶数变化两个方面讨论了阶结构的转化机制.