H+质子化对壳聚糖膜材动态力学行为的影响

• 作者: 王世铭 王琼生
• 来源期刊: 福建师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 壳聚糖 H+质子化 薄膜 动态力学行为 动态机械热分析仪
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 68-74,90
• 页数: 8页
• 分类号: TQ330.38|TQ330.7
• 字数: 4636字
• 语种: 中文

摘要

以流延法制备H+质子化壳聚糖和中性壳聚糖膜材,在-100～345℃范围用动态机械热分析仪(DMTA)研究H+质子化壳聚糖膜材动态储能模量E'、动态损耗模量E''和力学损耗因子tanδ的温度谱和频率谱,结合X射线、红外光谱、扫描电镜和热重差热分析,探讨H+质子化对壳聚糖膜材动态力学行为及其热稳定性的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王琼生	福建师范大学材料科学与工程学院	33	198	8.0	12.0
3	王世铭	福建师范大学化学与化工学院	41	266	9.0	14.0