添加K2ZrF6对钛合金微弧氧化膜层组织结构的影响

• 作者: 夏伶勤 李卫京 杨智勇 韩建民
• 来源期刊: 北京交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钛合金 微弧氧化 陶瓷涂层 氧化锆
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 电气工程
• 页码范围: 114-118
• 页数: 5页
• 分类号: TG178
• 字数: 3449字
• 语种: 中文

摘要

采用交流电源对TA15合金进行微弧氧化处理,研究了在NaAlO2-Na3PO4溶液体系中添加K2ZrF6对膜层组织结构的影响.利用XRD、SEM和EDS等手段分析了膜层的相组成及表面形貌,探讨了添加剂K2ZrF6对成膜速率、膜层结构的影响,借助热震实验研究了陶瓷膜与基体的结合力,并利用热阻隔性能测试评价了不同溶液中所形成膜层的热阻隔效果.加入K2ZrF6后,微弧氧化的成膜速率增加.SEM结果表明:K2ZrF6使膜层表面粗糙度降低,膜层内部缺陷减少.EDS线扫描分析表明:添加K2ZrF6后氧化膜层中出现大量锆元素,且其含量随距膜/基界面距离的增加而增加.XRD结果显示,未添加K2ZrF6溶液制得的膜层主要由Al2TiO5和Rutile-TiO2相组成；而添加K2ZrF6后,膜层中生成了隔热性良好的ZrO2相.热物性相关测试显示:经K2ZrF6调制后的膜层抗热震性能降低,但具有更加优良的热阻隔性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩建民	北京交通大学机械与电子控制工程学院	70	664	14.0	22.0
2	李卫京	北京交通大学机械与电子控制工程学院	50	497	12.0	20.0
3	杨智勇	北京交通大学机械与电子控制工程学院	36	217	7.0	13.0
4	夏伶勤	北京交通大学机械与电子控制工程学院	3	21	2.0	3.0