纳米级三氧化二铝对碱性钨抛光液的影响

• 作者: 刘玉岭 夏显召 王娟 魏文浩
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米 碱性 三氧化二铝 钨抛光液 化学机械抛光(CMP)
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 64-68
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2013.01.012

摘要

研究了纳米级三氧化二铝颗粒的加入对以二氧化硅为磨料的碱性钨抛光液的影响.首先用单一因素法分析了三氧化二铝与二氧化硅质量比对原有碱性钨抛光液的去除速率的影响,以及氧化剂体积分数和pH值对抛光液去除速率的影响,取最优值,然后对添加三氧化二铝抛光液抛光后晶圆表面粗糙度进行了测试分析.实验结果显示在三氧化二铝与二氧化硅质量比为1∶2,二氧化硅水溶胶与去离子水体积比为1∶1,氧化剂体积分数为2％,pH值为9时,去除速率达到175 nm/min,较原有碱性钨抛光液提高约1倍,表面粗糙度为2.24 nm,能满足实际生产要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子技术与材料研究所	263	1540	17.0	22.0
2	王娟	河北工业大学微电子技术与材料研究所	40	220	8.0	12.0
3	魏文浩	河北工业大学微电子技术与材料研究所	3	40	3.0	3.0
4	夏显召	河北工业大学微电子技术与材料研究所	3	23	3.0	3.0