染色电解质对疏水力的贡献——一些染整技术的回顾之二

• 作者: 杨一奇 母炳男 王碧佳
• 来源期刊: 印染
• 学科: 工学
• 关键词: 离子染色 电解质 疏水力作用 校正Donnan模型 上染吸附
• 年，卷（期）: 2013,（18）
• 所属期刊栏目: 讲座
• 页码范围: 46-50
• 页数: 5页
• 分类号: T5193.59
• 字数: 4697字
• 语种: 中文

摘要

经典染色理论认为,电解质主要通过增大离子强度,提高染料在染浴中的化学势起到促染作用；或者通过与离子型染料竞争染位,起到缓染作用.20世纪60年代,研究人员利用Donnan模型对离子型染料染离子型纤维进行深入研究,发现电解质还通过改变染浴体系的熵而影响染料-纤维间的疏水作用,在高电解质浓度条件下,电解质对疏水力的影响对上染率起到决定作用.校正后的Donnan模型能够很好地解释染色中加入电解质对上染率的影响.文中综述染色经典理论存在的问题,进而阐述了电解质对染料-纤维疏水力的贡献,及其对染色的影响,提出电解质在染色过程中通过同时改变体系焓变和熵变而影响染料上染.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王碧佳	东华大学生态纺织教育部重点实验室东华大学化学化工与生物工程学院	17	33	4.0	5.0
2	母炳男	东华大学生态纺织教育部重点实验室东华大学化学化工与生物工程学院	2	0	0.0	0.0
3	杨一奇	东华大学生态纺织教育部重点实验室东华大学化学化工与生物工程学院	9	20	3.0	4.0