Si90Al10Nx薄膜的工艺控制及光学性能研究

• 作者: 余森江 周红 陈君
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 工艺研究 折射率 消光系数 分压比
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: O439|TB43
• 语种: 中文

摘要

通过改变磁控溅射过程中氩气与氮气(Ar/N2)的分压比,制备了多种不同厚度的Si90Al10Nx薄膜样品,并采用透射率轮廓法对样品在热处理前后的光学性能(包括折射率和消光系数)进行了测量和分析.结果表明,样品的光学性能可通过调整Ar/N2的流量比、薄膜厚度、退火条件等工艺参数加以控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周红	中国计量学院物理系	12	21	3.0	4.0
2	余森江	中国计量学院物理系	17	16	2.0	2.0
3	陈君		2	0	0.0	0.0