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摘要:
对塑料薄膜进行低温等离子体表面处理,磁控溅射Ni-Cr过渡层、Cu植晶层后再电镀,所得镀层致密且结合力好.讨论了等离子体处理时间、磁控溅射过渡层和植晶层对后续镀层结合力的影响.指出了镀镍的工艺条件控制对镀层应力的影响.采用该工艺制备的屏蔽材料质量轻、价格低、有较好的机械性能,在电磁屏蔽领域应用广泛.
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关键词云
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文献信息
篇名 塑料薄膜屏蔽材料的生产工艺
来源期刊 电镀与环保 学科 工学
关键词 塑料薄膜 低温等离子体 磁控溅射 电镀 屏蔽 结合力
年,卷(期) 2013,(2) 所属期刊栏目 电镀
研究方向 页码范围 34-36
页数 3页 分类号 TQ153
字数 2337字 语种 中文
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研究主题发展历程
节点文献
塑料薄膜
低温等离子体
磁控溅射
电镀
屏蔽
结合力
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电镀与环保
双月刊
1000-4742
31-1507/X
16开
上海市余姚路607弄19号
4-328
1981
chi
出版文献量(篇)
2458
总下载数(次)
4
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